Els alumnes del Curs de Formació en Electrònica Impresa del Clúster MAV van participar dimarts, 20 de gener, en una sessió presencial a les instal·lacions del grup CIEFMA de la Universitat Politècnica de Catalunya (UPC), al Campus Diagonal-Besòs.

Durant la visita, Lluís Llanes va presentar les principals capacitats del grup CIEFMA en caracterització i processament de materials, comportament mecànic de materials avançats —com ceràmiques, compostos i aliatges metàl·lics—, integritat estructural, fenòmens de degradació superficial i micro i nanomecànica, tant en materials massius com en capes fines.

A continuació, Maziar Ahmadi va donar a conèixer les línies de treball del grup en l’àmbit de l’electrònica impresa, destacant la fabricació de partícules de plata per a tintes conductores i la seva combinació amb impressió 3D en ceràmica, obrint noves oportunitats per al desenvolupament d’aplicacions avançades.

La jornada es va completar amb una visita als laboratoris del grup CIEFMA i al Centre d’Investigació Multiescala de la UPC, una experiència molt enriquidora que va permetre als participants acostar-se de primera mà a la recerca aplicada i a les infraestructures científiques de referència.

La primera visita del curs va tenir lloc el 18 de novembre al centre tecnològic Leitat, on els participants van poder visitar diversos laboratoris especialitzats que intervenen en tota la cadena de valor de l’electrònica impresa.

Des del Clúster MAV volem agrair al grup CIEFMA, a la UPC i a totes les persones implicades la seva disponibilitat i col·laboració per compartir coneixement i obrir les portes de la recerca als professionals del sector.